8英寸「单片式硅外延生长炉』
晶盛机电研发的8英寸单片式硅外延生长炉，可兼容6英寸、8英寸硅晶片生长，结构可靠稳定，有较好的膜厚和电阻均匀性
6英寸「碳化硅外延炉』
晶盛机电研发的6英寸碳化硅外延炉，可实现生长过程自动化控制，有较好的薄膜均匀性，兼容4英寸、6英寸外延片生长，结构简单，单片成本低
6英寸「立式碳化硅外延炉』
晶盛机电研发的6英寸立式碳化硅外延炉，可实现对4英寸、6英寸晶圆外延的生长，成膜质量优，工艺稳定性好，生产效率有效提升
6英寸「双片式碳化硅外延炉』
晶盛机电研发的6英寸双片式碳化硅外延炉，与单片设备相比，单台产能增加70%，单片运营成本降幅可达30%以上
8英寸「炉管』
晶盛机电研发的8英寸炉管，可同时对150片产品进行加工，满足多晶硅、退火等工艺需求，设备自动化程度高，可对接工厂MES系统
12英寸「炉管』
晶盛机电研发的12英寸炉管，可同时对125片产品进行加工，满足多晶硅、退火等工艺需求，设备自动化程度高，可对接工厂MES系统
先进制程及功率半导体装备（部分产品）
以CVD技术为核心，应用于先进制程、功率半导体的外延装备
